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直播预告!半导体缺陷检测和量测技术篇

时间:2023-10-12 06:51 点击次数:197

  本次大会分设:半导体材料分析技术新进展、可靠性测试和失效分析技术、可靠性测试和失效分析技术(赛宝实验室专场)、缺陷检测和量测技术4个主题专场,诚邀业界人士报名参会。

  2023年10月18-20日,仪器信息网(与电子工业出版社将联合主办第四届“半导体材料与器件分析检测技术与应用”主题网络研讨会。

  iCSMD 2023会议围绕光电材料与器件、第三代半导体材料与器件、传感器与MEMS、半导体产业配套原材料等热点材料、器件的

  等热点分析检测技术,为国内广大半导体材料与器件研究、应用及检测的相关工作者提供一个突破时间地域限制的免费学习平台,让大家足不出户便能聆听到相关专家的精彩报告。

  本次大会分设:半导体材料分析技术新进展、可靠性测试和失效分析技术、可靠性测试和失效分析技术(赛宝实验室专场)、缺陷检测和量测技术4个主题专场,诚邀业界人士报名参会。

  【个人简介】杨树明,西安交通大学教授,博士生导师,国际纳米制造学会(ISNM)会士、国家杰出青年基金获得者、国家重点研发计划项目首席、教育部新世纪优秀人才、陕西省重点科技创新团队带头人等。承担国家及省部级重大重点项目20余项,发表学术论文200余篇,出版专著2部,授权/公开国际国内发明专利100多件,获科技奖励9项。被遴选为亚洲精密工程与纳米技术学会(ASPEN)理事、中国计量测试学会常务理事、中国微米纳米技术学会微纳米测量与仪器分会副理事长、中国计量测试学会几何量专业委员会副主任委员、中国计量测试学会计量仪器专业委员会常务理事、中国仪器仪表学会机械量测试仪器分会常务理事、中国机械工程学会微纳制造技术分会常务理事等。在国际国内学术会议应邀做大会报告和特邀报告50余次,担任JMS、IJPEM-GT、IJRAT、NMME、MST、PE、IJAMT、Photonics等国际期刊编委和客座编委以及多个国内期刊编委等。

  【摘要】该报告将介绍半导体晶圆制造过程、图形化过程以及封装后关键尺寸和缺陷检测技术及其装备。

  【个人简介】施玉书,男,工学博士,博士生导师,中国计量科学研究院纳米计量研究室主任与微纳计量创新团队带头人,国际计量委员会长度咨询委员会国际互认与纳米工作组委员、ISO/TC213与ISO/TC201专家委员、SAC/TC240、SAC/TC279/WG11委员、东北亚标准合作会议WG11召集人、全国几何量长度计量技术委员会委员及纳米几何量计量工作组组长、国家重点研发计划项目负责人。致力于我国纳米量值的等效一致与国际互认,以实现我国纳米科技与产业高端精密仪器的量值准确可靠,先后承研了国家级项目/课题10余项,自主研制了多台套国家最高纳米计量标准装置与多结构纳米几何特征参量国家标准物质,建立了全链条国家纳米计量体系。主持和参与国家标准与计量技术规范制定20项,建立社会公用计量标准8项、获批国家标准物质29项,主导/参与国际比对5项,主导国内比对2项,在国内外刊物发表论文80余篇,授权专利20余项。作为第一和主要完成人先后获得省部级科技奖励6项,学会科技奖励3项。

  【摘要】国际权威的半导体技术蓝图(ITRS)明确指出,计量是集成电路的关键使能技术之一。我国半导体产业一直从国外溯源,使得关键尺寸量值长期受制于人。随着我国半导体产业能力的发展,迫切需要纳米级甚至亚纳米级准确度国家计量能力的技术支撑。面对溯源方式与测量原理双重极限的挑战,多年来中国计量科学研究院纳米计量团队开展了针对性的计量与应用技术研究,成功研制了用于量值溯源的基于不同测量原理的纳米计量国家标准装置与用于量值传递的多特征结构的国家标准物质,应用于我国半导体产业的纳米计量能力正在逐步的形成。随着研究的深入与产业需求的对接,相关计量能力与标准物质已在国内半导体产业广泛应用。

  【个人简介】刘俊伯,博士,中科院光电技术研究所微电子装备总体实验室,副研究员,硕士生导师,主要从事投影光刻装备相关核心技术研究。2017 年入选西部之光人才计划,2020 年入选中国科学院青年创新促进会,获创新基金计划资助。 承担或参与国家重大科研仪器装备项目、国家重点研发计划、国家自然科学基金、四川省应用基础研究、四川省融合类研究项目等项目,重点开展光刻机投影光刻曝光系统、综合像质原位测试、全链路逆优化仿真模型等核心技术研究,在OPT EXPRESS、OPT LASER ENG 等SCI 期刊上发表论文20余篇,获发明专利授20余项。 组织团队成功研制UVSTEP系列化光刻装备,在军民领域实现多台套上线应用,获首届中国光学工程学会“金燧奖”,产生较好的社会、经济效益。

  【摘要】超精密光学系统是半导体装备的核心分系统,将直接影响半导体装备的性能。针对明、暗场半导体检测设备需求,团队展开多通道暗场检测光路、大数值孔径折反物镜、深紫外-紫外宽谱匀化系统等多类型光学系统研究,建立起完整的半导体装备超精密光学系统“设计、制造、镀膜、集成、测试”研发体系,所研发的超精密光学系统已交付整机十余套。

  【个人简介】邓晓,同济大学物理学院副教授,博士生导师,主要研究方向为纳米长度计量,具体包括原子光刻、光栅干涉仪、MOEMS加速度计与相对重力仪等。2021年入选中国科协“第六届青年人才托举工程”,2023年入选上海市“启明星”人才计划,是全国新材料与纳米计量技术委员会委员。作为项目负责人主持国家重点研发计划项目、基金委面上与青年项目多项。研究成果获批国家一级标准物质2项、国家二级标准物质2项,近五年共发表SCI论文15篇(含一作/通讯共10篇);申请中国发明专利10项(授权4项);申请美国发明专利2项;参与起草国家标准与国家计量技术规范各1项。

  【摘要】 集成电路微纳检测设备产业是把核心的原材料与零部件,结合技术和软件集成后开发微纳检测设备产品为芯片中的晶圆制造工艺服务。纳米长度计量体系是集成电路微纳检测设备量值溯源,误差控制与测量准确性的核心支撑。对自然界常数的物化、量传和复用是提升测量准确性的有效手段。自溯源标准物质是指物质的关键参数可以溯源到自然界常数的标准物质。汇报人将介绍基于铬原子光刻技术研制纳米长度标准物质、自溯源位移传感器及新型计量型AFM的研究思路与成果。系列光栅的准确性水平得到国际权威机构计量认可,并获批多项国家标准物质。系列可以溯源到铬原子跃迁频率的标准物质、位移传感器与计量仪器有望构建新型自溯源纳米长度计量体系。

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