国产电子束光刻机实现自主可控，是实现我国集成电路产业链自主可控的重要一环。近日，松山湖材料实验室精密仪器联合工程中心产业化项目研发再获新突破，项目团队成功研制出电子束光刻系统，在全自主电子束光刻机整机的开发与产业化过程中取得阶段性进展，初步实现了电子束光刻机整机的自主可控，标志着国产电子束光刻机研发与产业化迈出关键一步。
精密仪器研发团队是首批入驻松山湖材料实验室的团队之一，专注于材料和半导体领域的精密加工、表征和测量设备研发。为了研制具有自主知识产权的电子束光刻机整机，研发团队在松山湖材料实验室完成一期项目研发并成立产业化公司——东莞泽攸精密仪器有限公司后，带资回到实验室进入“滚动发展”模式，产业化公司与实验室共同投资2400万元进行第二阶段研发，打造集科研与产业化为一体的电子束装备技术创新基地。
据了解，电子束光刻机是推动新材料、前沿物理研究、半导体、微电子、光子、量子研究领域的重要手段之一。此前，电子束光刻机主要由美日企业垄断，我国尚未掌握该领域核心技术，装备长期依赖进口。
目前，东莞泽攸精密仪器有限公司已基于自主研制的扫描电镜主机，完成电子束光刻机工程样机研制，并开展功能验证工作。通过对测试样片的曝光生产，可以绘制出高分辨率的复杂图形，朝着行业先进水平稳步前进。该成果标志着泽攸科技在电子束光刻机关键技术和整机方面的自主创新能力获得重大提升。下一步，团队及产业化公司将持续完善电子束光刻机的性能指标，使其达到批量应用及产业化的要求。
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